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芯片界的DeepSeek時刻,國產(chǎn)光刻機不遠了?

前幾天的中國國際半導體展上,最受關(guān)注的是一家成立僅3年的深圳公司——新凱來。

原因是,新凱來首次公開亮相,就一口氣展示了6大類共31款產(chǎn)品,覆蓋半導體制造多個環(huán)節(jié)。

最重要的一點,按照新凱來的說法,所有這些產(chǎn)品的核心零部件全部實現(xiàn)100%國產(chǎn)化。

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一鳴驚人的新凱來,究竟是什么來頭?新凱來發(fā)布31款產(chǎn)品,意味著什么?國產(chǎn)光刻機離我們還有多遠?

今天我們就來談談這些問題,碼字不易,歡迎點贊,轉(zhuǎn)發(fā),收藏。

新凱來

新凱來

這次新凱來發(fā)布的31款半導體產(chǎn)品,命名很有意思。

比如外延沉積設(shè)備叫“峨眉山”,原子層沉積設(shè)備叫“阿里山”,刻蝕設(shè)備叫“武夷山”,薄膜沉積設(shè)備叫“長白山”。

無論是工藝裝備,還是檢測裝備,都是以中國的名山作為命名,非常有特色。

從中也能看到企業(yè)自主創(chuàng)新的國產(chǎn)替代決心,不畏險阻、勇攀高山,勢必要打破壟斷。

雖然一夜爆火,但提起新凱來這個名字,大多數(shù)人可能還很陌生。

這是一家僅僅成立3年的企業(yè),而且前3年基本沒什么消息,就連官方公眾號都是這個月才正式注冊,相當于第一次走進大家的視線。

不過,新凱來母公司是深圳市新凱來技術(shù)有限公司,屬于深圳市重大產(chǎn)業(yè)投資集團的一員,背靠深圳市國資委,名副其實的“國家隊”。

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深圳市重大產(chǎn)業(yè)投資集團,這個含金量有多高呢?

官網(wǎng)上,深重投布局的重大產(chǎn)業(yè)項目一共就3個,分別是華潤微電子深圳12英寸集成電路生產(chǎn)線、第三代半導體產(chǎn)業(yè)鏈項目,還有聯(lián)合中芯國際做的中芯深圳高端芯片制造項目。

所以擺明了,新凱來也是深圳在半導體產(chǎn)業(yè)鏈上布局的重要一環(huán),用4個字形容就是根正苗紅。

值得一提的是,有消息稱新凱來前身與華為關(guān)系非常密切,而且中國名山的命名方式似乎也帶有濃重的華為色彩。

3年磨劍,新凱來把國產(chǎn)光刻機帶入DeepSeek時刻,迎來一波大爆發(fā)。

國產(chǎn)光刻機突圍戰(zhàn)

國產(chǎn)光刻機突圍戰(zhàn)

大家都知道,最近幾年時間,我們正在打一場國產(chǎn)光刻機的突圍戰(zhàn)。

就在前年,臺積電的董事長張忠謀還曾發(fā)言,說大陸在14納米以下的高端芯片上,產(chǎn)量幾乎為0,技術(shù)至少落后兩代。

“如果美國想要以此扼殺中國大陸,他們真的無能為力?!?/strong>

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坦白來講,雖然張忠謀話說得糙了點,但幾十年的差距確實客觀存在,更需要我們奮起直追。

而要說中國真的無能為力,那么這個結(jié)論恐怕下得太早了。

以這次火出圈的新凱來為例。

就在4年前,國內(nèi)在量檢測高端裝備領(lǐng)域幾乎是完全空白一片,包括裝備和對應的零部件、材料及工藝基礎(chǔ)等各個方面,可以說是樣樣不行。

根據(jù)VLSI Research和QY Research的調(diào)查數(shù)據(jù)顯示,該行業(yè)的CR5指數(shù)高達82%,也就是行業(yè)內(nèi)前5大企業(yè)的市場份額總額占比能占到82%。

并且這排名前5的裝備供應商,不是來自歐美就來自日本。

現(xiàn)在4年時間過去,包括新凱來在內(nèi)的國內(nèi)半導體裝備企業(yè)已經(jīng)實現(xiàn)突圍,打破了之前的壟斷。

更重要的是,據(jù)新凱來公開資料性顯示,其部分設(shè)備可以支持7nm以下先進制程,而且已經(jīng)通過產(chǎn)線驗證。

7nm,有什么特殊含義嗎?

一直以來,7nm被半導體行業(yè)視為技術(shù)的分水嶺,突破了這個界限,就意味著已經(jīng)能滿足全球90%以上的芯片需求。

這場持續(xù)數(shù)年的國產(chǎn)光刻機突圍戰(zhàn),又一次收到了輝煌戰(zhàn)果。

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國產(chǎn)光刻機,離我們還有多遠?

國產(chǎn)光刻機,離我們還有多遠?

現(xiàn)在整個藍星的“光刻機之王”,毫無疑問還是荷蘭的ASML,生產(chǎn)7nm以下高端芯片所需要的EUV光刻機,全世界只有ASML能生產(chǎn)。

換句話說,ASML就是完全壟斷,市場份額接近100%。

但是,這里要說的是國產(chǎn)光刻機離我們也沒有那么遠,早在去年9月份的時候,工信部就已經(jīng)官宣了一款28nm的DUV光刻機,當時還在國外社交媒體上引發(fā)了不少關(guān)注。

28nm,距離7nm是不是有點太遙遠?

從技術(shù)層面上來看,確實如此,ASML制造高端EUV光刻機的極紫外線光源,只有美國Cymer公司具備成熟技術(shù),反射鏡面的廠商在德國,芯片上用的復合材料、光刻膠,高純度化學品,基本都是日本專利。

但與此同時,按照我們過往的風格,一直都是應用一批、研發(fā)一批、儲備一批,所以官宣的很可能不是最先進的。

尤其是光刻機如此敏感的領(lǐng)域,一些最新的進展信息,外界幾乎沒什么獲得渠道,只能靠猜。

去年9月10日,上海微電子公告顯示已經(jīng)申請了“極紫外輻射發(fā)生裝置及光刻設(shè)備”的發(fā)明專利,而提交時間是兩年以前。

現(xiàn)在新凱來大爆發(fā),背后釋放的信號很可能是,中國光刻機產(chǎn)業(yè)的集中攻堅已經(jīng)有了長足發(fā)展,某些細分領(lǐng)域的“卡脖子”已經(jīng)不復存在了。

從這樣的角度來說,國產(chǎn)光刻機的距離不會太遙遠,新能源汽車領(lǐng)域彎道超車的故事,正再一次在半導體產(chǎn)業(yè)上演。

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新凱來橫空出世,中國半導體行業(yè)協(xié)會的魏少軍教授感慨:

“新凱來的亮相證明,半導體行業(yè)是干出來的,不是喊出來的!”

事實證明也確實如此,雖然這幾年半導體行業(yè)曝出來的大新聞并不多,但國產(chǎn)光刻機技術(shù)一直在進步,堅持自主研發(fā)創(chuàng)新,真正打破壟斷只是時間問題。

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