
本文由半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫(ID:ICVIEWS)綜合
Panther Lake處理器很可能成為風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)的芯片。
近日舉辦的英特爾Vision 2025大會(huì)上,英特爾正式宣布其英特爾18A工藝制程技術(shù)已進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)階段。
英特爾代工服務(wù)副總裁Kevin O'Buckley在英特爾即將全面完成其“四年五個(gè)節(jié)點(diǎn)(5N4Y)” 計(jì)劃之際宣布了這一消息。

該計(jì)劃最初由前CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)所規(guī)劃,是該公司預(yù)計(jì)從競爭對(duì)手臺(tái)積電手中奪回半導(dǎo)體王位的一部分。
Kevin O'Buckley表示,風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)雖然聽起來很可怕,但實(shí)際上是一個(gè)產(chǎn)業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)術(shù)語。 風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)的重要性在于我們已經(jīng)將技術(shù)發(fā)展到了可以量產(chǎn)的程度。
他還強(qiáng)調(diào),英特爾已經(jīng)生產(chǎn)了大量英特爾18A測試芯片。相較之下,風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)包括將完整的芯片設(shè)計(jì)晶圓投少量生產(chǎn),再通過調(diào)整其制造流程,并在實(shí)際生產(chǎn)運(yùn)作中驗(yàn)證節(jié)點(diǎn)和制程設(shè)計(jì)套件(PDK)。據(jù)悉,英特爾將在2025年下半年擴(kuò)大英特爾18A的產(chǎn)量。
不過,風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)仍存在一些風(fēng)險(xiǎn)。因?yàn)殡S著公司在學(xué)習(xí)曲線上不斷改進(jìn)其制造技術(shù)和優(yōu)化其工具,其產(chǎn)量和功能可能會(huì)低于原定的標(biāo)準(zhǔn)。因此,客戶通常使用風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)來制造工程樣品,但其不會(huì)向客戶提供像完全符合節(jié)點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)那樣嚴(yán)格的產(chǎn)量目標(biāo)/保證。因此,一些客戶愿意承擔(dān)這些風(fēng)險(xiǎn),以獲得透過早期進(jìn)入節(jié)點(diǎn)制程得到的上市時(shí)間優(yōu)勢,這使他們能夠在競爭對(duì)手開始生產(chǎn)之前調(diào)整和進(jìn)一步優(yōu)化他們的設(shè)計(jì)。
由于,英特爾首款I(lǐng)ntel 18A 節(jié)點(diǎn)制程的處理器Panther Lake 將于2025 年稍后投入量產(chǎn)。因此,Panther Lake 處理器很可能成為風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)的芯片。這個(gè)時(shí)程與我們對(duì)英特爾典型風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)到量產(chǎn)的時(shí)間表的預(yù)期基本一致。
盡管英特爾在其取消的Intel 20A 節(jié)點(diǎn)制程上率先采用多項(xiàng)新技術(shù),但Intel 18A 節(jié)點(diǎn)制程仍將成為首款同時(shí)采用PowerVia 背面供電和RibbonFET 環(huán)繞式閘極(GAA)晶體管的產(chǎn)品化芯片。其中,PowerVia 提供最佳化的電源布線,以提高性能和晶體管密度,而RibbonFET 也在更小的面積內(nèi)提供更好的晶體管密度以及更快的晶體管開關(guān)。
報(bào)道強(qiáng)調(diào),英特爾也繼續(xù)致力于其更廣泛的代工路線,其中包括后續(xù)的Intel 14A 節(jié)點(diǎn)制程,這將是英特爾首次采用High-NA EUV 曝光技術(shù)的節(jié)點(diǎn)制程。未來,英特爾的大量制程技術(shù)擴(kuò)展到其他節(jié)點(diǎn),預(yù)計(jì)將進(jìn)一步拓展英特爾代工服務(wù)的產(chǎn)品組合到更廣泛的應(yīng)用范圍。
31日舉辦的英特爾Vision開幕活動(dòng)中,英特爾新任CEO陳立武宣布18A工藝技術(shù)仍按計(jì)劃進(jìn)行,接近第一批外部流片,預(yù)計(jì)今年下半年首發(fā)該工藝的Panther Lake處理器將進(jìn)行大批量生產(chǎn)。
據(jù)悉,英特爾的下一代面向移動(dòng)端筆記本的Panther Lake將于2025年下半年發(fā)布(預(yù)計(jì)命名為酷睿Ultra 300系列)。
英特爾“四年五個(gè)節(jié)點(diǎn)”戰(zhàn)略

英特爾“四年五個(gè)節(jié)點(diǎn)” 計(jì)劃是該公司在2021年7月提出的半導(dǎo)體制造戰(zhàn)略,目的是通過四年時(shí)間(2021-2025 年)推出五個(gè)制程節(jié)點(diǎn),重塑其在先進(jìn)制程領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。
2010年代后期,英特爾在10nm/7nm節(jié)點(diǎn)遭遇多次延遲,而臺(tái)積電、三星通過EUV技術(shù)快速推進(jìn)3nm/2nm制程,導(dǎo)致英特爾在移動(dòng)端和服務(wù)器市場份額被蠶食。
2021年帕特?基辛格接任CEO后,提出 “集成設(shè)備制造商(IDM)2.0” 戰(zhàn)略,強(qiáng)調(diào)自主制造能力與代工服務(wù)并重。“四年五個(gè)節(jié)點(diǎn)” 計(jì)劃成為IDM 2.0的核心載體,目標(biāo)是到2025年通過五個(gè)節(jié)點(diǎn)實(shí)現(xiàn)制程反超。
為更準(zhǔn)確反映性能與能效提升,英特爾放棄傳統(tǒng)的nm命名法,改用英特爾7/4/3/20A/18A的新命名體系。20A工藝等效2nm級(jí),18A則等效于1.8nm級(jí)。

英特爾宣布,18A工藝進(jìn)展順利且超過預(yù)期,Arrow Lake高性能處理器原定采用的20A工藝已經(jīng)取消,改為外部代工制造。
2024年9月,
18A工藝在20A的基礎(chǔ)上打造,將成為首款同時(shí)采用PowerVia背面供電和RibbonFET環(huán)繞式柵極(GAA)晶體管技術(shù)的芯片。
其中,PowerVia提供優(yōu)化的電源布線,可提高性能和晶體管密度,而RibbonFET能夠精確控制晶體管溝道中的電流,在減少功耗方面發(fā)揮著重要作用,同時(shí)還能實(shí)現(xiàn)芯片組件的進(jìn)一步小型化。
按照英特爾的愿景,18A將是其反超臺(tái)積電、重奪半導(dǎo)體工藝世界第一的關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)。
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