半導(dǎo)體設(shè)備是指用于制造半導(dǎo)體芯片（集成電路）的各種設(shè)備和工具，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的先導(dǎo)、基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)，主要包括光刻機(jī)、刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、真空鍍膜設(shè)備、清洗設(shè)備、離子注入設(shè)備、涂膠顯影設(shè)備、CMP設(shè)備、熱處理設(shè)備等。
據(jù)國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會（SEMI）數(shù)據(jù)，去年半導(dǎo)體設(shè)備市場總規(guī)模投資達(dá)到1090億美元，其中前道設(shè)備投資占比高達(dá)90%。預(yù)計今年將再創(chuàng)新高，同比增長16%至超過1270億美元。
CINNO ? IC Research統(tǒng)計了2024年全球半導(dǎo)體設(shè)備商TOP10，合計半導(dǎo)體業(yè)務(wù)營收同比增長約10%，超過1100億美元。沒有“新面孔”出現(xiàn)，日本企業(yè)占據(jù)4席，美國3家，荷蘭2家，中國1家。
排名6-10位的依次是北方華創(chuàng)（NAURA）、日本迪恩士（Screen，全球領(lǐng)先的晶圓切割設(shè)備商）、日本愛德萬（Advantest，全球知名的測試設(shè)備制造廠商）、荷蘭ASM國際（ASMI，主要提供半導(dǎo)體前道用沉積設(shè)備）、日本迪斯科（Disco，全球領(lǐng)先的晶圓切割設(shè)備商）。
北方華創(chuàng)2023年首次進(jìn)入前十，2024年排名上升兩位至第六。這家中國半導(dǎo)體設(shè)備龍頭，主要生產(chǎn)刻蝕、沉積、清洗等主要半導(dǎo)體制造設(shè)備。去年預(yù)計實現(xiàn)營收276億-317.80億元，同比增長25.00%-43.93%。凈利潤51.7億-59.5億元，同比增長32.60%至52.60%。
電容耦合等離子體刻蝕設(shè)備（CCP）、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD）、原子層沉積立式爐、堆疊式清洗機(jī)等多款新產(chǎn)品，進(jìn)入客戶生產(chǎn)線并實現(xiàn)批量銷售。
北方華創(chuàng)還在積極拓展半導(dǎo)體制造裝備版圖，在上海國際半導(dǎo)體展覽會（SEMICON China 2025）上，發(fā)布了首款離子注入機(jī)Sirius MC 313，正式進(jìn)軍離子注入設(shè)備市場。同時推出首款12英寸電鍍設(shè)備（ECP）——Ausip T830。據(jù)悉，這款設(shè)備專為硅通孔（TSV）銅填充設(shè)計，突破30多項關(guān)鍵技術(shù)，主要應(yīng)用于2.5D/3D先進(jìn)封裝領(lǐng)域。
值得一提的是，近年來我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自主可控進(jìn)程明顯加速，國產(chǎn)替代已成為行業(yè)發(fā)展的核心主線。除了北方華創(chuàng)，中國還涌現(xiàn)出中微公司、盛美上海、至純科技、長川科技、富創(chuàng)精密、芯源微等相關(guān)上市企業(yè)。
前五名沒有發(fā)生變化，半導(dǎo)體業(yè)務(wù)營收合計近900億美元，約占比TOP10的85%。荷蘭阿斯麥（ASML）、美國應(yīng)用材料（AMAT，被譽(yù)為“半導(dǎo)體設(shè)備超市”）、美國泛林（LAM，主營半導(dǎo)體制造用刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備以及清洗等設(shè)備）、日本東京電子（TEL，主要生產(chǎn)涂膠顯像設(shè)備、熱處理設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、化學(xué)氣相沉積設(shè)備、濕法清洗設(shè)備及測試設(shè)備）、美國科磊（KLA，半導(dǎo)體工藝制程檢測量測設(shè)備龍頭）。
公開資料顯示：阿斯麥是由飛利浦與ASM（先進(jìn)半導(dǎo)體材料公司）于1984年合資成立的，總部設(shè)在荷蘭埃因霍溫市。作為全球第一大光刻機(jī)設(shè)備商，同時也是全球唯一可提供7nm及以下先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)設(shè)備商，專門向臺積電、三星、中芯國際等晶圓代工廠商提供產(chǎn)品。
去年，阿斯麥實現(xiàn)營收282.63億歐元（約合人民幣2255億元），同比增長2.5%，創(chuàng)下歷史新高；凈利潤為75.72億歐元，同比下滑3.4%；毛利率高達(dá)51.3%，同比持平。其中，中國大陸是其第一大市場，貢獻(xiàn)了超過40%的收入（101.95億歐元）。
按照光源類型，光刻機(jī)分為I-line光刻機(jī)、KrF光刻機(jī)、ArF光刻機(jī)（常被稱為DUV光刻機(jī)）、ArFi光刻機(jī)（即ArF浸沒式光刻機(jī)）、EUV光刻機(jī)。阿斯麥去年一共賣出418臺光刻機(jī)，包括44臺EUV光刻機(jī)、374臺DUV光刻機(jī)。
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