真空鍍膜技術(shù)是泛半導(dǎo)體制造的核心工藝，直接影響光伏電池、顯示屏、新能源器件等產(chǎn)品的性能和量產(chǎn)效率。隨著全球?qū)︹}鈦礦光伏、柔性顯示等高端技術(shù)的需求激增，市場(chǎng)對(duì)鍍膜設(shè)備的精度、穩(wěn)定性和多材料兼容性提出了更高要求。
在泛半導(dǎo)體領(lǐng)域精密涂布技術(shù)持續(xù)突破的浪潮中，曼恩斯特正式推出三大真空鍍膜設(shè)備——單體磁控真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射連續(xù)線真空鍍膜設(shè)備及臥式點(diǎn)源蒸鍍?cè)O(shè)備，以差異化技術(shù)矩陣精準(zhǔn)覆蓋新能源、光伏、顯示等核心產(chǎn)業(yè)需求，加速國(guó)產(chǎn)高端鍍膜裝備自主化進(jìn)程。
單體磁控真空鍍膜設(shè)備
單體磁控真空鍍膜設(shè)備適用于硬質(zhì)涂層、氫能源雙極板、裝飾等領(lǐng)域，可實(shí)現(xiàn)硬質(zhì)膜、介質(zhì)膜、導(dǎo)電膜的沉積。設(shè)備配置公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品全方位鍍膜。根據(jù)產(chǎn)品鍍膜功能性選擇需求，通過(guò)配置不同靶材，實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射或者單質(zhì)濺射，達(dá)到最終的產(chǎn)品性能要求。
產(chǎn)品參數(shù)
/ MANST
產(chǎn)品特點(diǎn)
/ MANST
緊湊型設(shè)計(jì)
高度集成化設(shè)備外觀
轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)
多元鍍層沉積技術(shù)
公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架
轉(zhuǎn)速可設(shè)定
可實(shí)現(xiàn)單一鍍層沉積
多種鍍層復(fù)合沉積
磁控濺射連續(xù)線真空鍍膜設(shè)備
磁控濺射連續(xù)線真空鍍膜設(shè)備適用于光伏、觸控顯示、光學(xué)、裝飾、電磁屏蔽等領(lǐng)域，可實(shí)現(xiàn)介質(zhì)膜、導(dǎo)電膜的沉積。針對(duì)鈣鈦礦光伏領(lǐng)域，設(shè)備配置低損傷陰極，可有效保護(hù)鈣鈦礦功能涂層，降低高能電子損傷。針對(duì)其他應(yīng)用領(lǐng)域，通過(guò)配置不同的靶位材料，按照工藝順序，依次布局靶位，可實(shí)現(xiàn)最終的產(chǎn)品效果。
產(chǎn)品參數(shù)
/ MANST
產(chǎn)品特點(diǎn)
/ MANST
模塊化腔體設(shè)計(jì)
定制單/雙面鍍膜靶位
連續(xù)性產(chǎn)品輸出
定制化生產(chǎn)節(jié)拍
低電子損傷
鍍層靶位設(shè)計(jì)
可據(jù)客戶定試驗(yàn)
中試、量產(chǎn)機(jī)型
臥式點(diǎn)源蒸鍍?cè)O(shè)備
臥式點(diǎn)源蒸鍍?cè)O(shè)備適用于光伏、OLED、QLED等領(lǐng)域，可實(shí)現(xiàn)有機(jī)材料、金屬或者無(wú)機(jī)材料的沉積。設(shè)備配置分布式點(diǎn)源，根據(jù)材料物理特性，選擇性的配置金屬或者陶瓷點(diǎn)源，根據(jù)產(chǎn)品的幅寬，配置不同的點(diǎn)源數(shù)量。膜層沉積配置高精度晶控系統(tǒng)，可精確控制鍍層厚度。在鍍層均勻性上，采用PID與晶控聯(lián)動(dòng)的模式，控制點(diǎn)源蒸發(fā)溫度以及材料蒸發(fā)速率。
產(chǎn)品參數(shù)
/ MANST
產(chǎn)品特點(diǎn)
/ MANST
模塊化腔體設(shè)計(jì)
高精度蒸發(fā)源結(jié)構(gòu)
定制化機(jī)型選擇
定制化生產(chǎn)節(jié)拍
此次三大設(shè)備的發(fā)布，不僅填補(bǔ)了國(guó)產(chǎn)高端真空鍍膜裝備在精度控制與工藝適配性上的空白，亦為泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心技術(shù)突破注入了新動(dòng)能。未來(lái)，曼恩斯特將持續(xù)深化精密涂布技術(shù)與真空鍍膜工藝的融合創(chuàng)新，攜手產(chǎn)業(yè)鏈上下游開(kāi)拓更多元化的應(yīng)用場(chǎng)景，一同助力行業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。（來(lái)源：曼恩斯特）
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