荷蘭專家:10年后,中國可能造出EUV光刻機(jī),達(dá)到ASML目前的水平

前中央電視臺英文頻道主持人楊銳,就光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)與國際芯片產(chǎn)業(yè)問題采訪了荷蘭專業(yè)記者、半導(dǎo)體深度觀察者馬克·海金克。

海金克表示,中國在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域有著悠久的發(fā)展歷史,并且在中國企業(yè)當(dāng)中,也涌現(xiàn)出了一些ASML的競爭對手。這些競爭對手發(fā)展了幾十年,比如上海微電子公司。但是現(xiàn)在華為等公司,也在試圖用目前ASML所提供的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)方式掌握光刻技術(shù)。

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但是直到現(xiàn)在,ASML依然是EUV光刻技術(shù)的壟斷者,因?yàn)樗娴暮軓?fù)雜,將各個零部件組裝在一起是一項(xiàng)艱巨的工作。但是我相信,大約10年之后,一定會有中國的競爭對手達(dá)到ASML目前的水平。

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持續(xù)壓制

2017年,來自中國的客戶向ASML采購了總價值為7億歐元的光刻機(jī)設(shè)備。同年年底,時任公司CEO的彼得·溫寧克在訪談中對投資者表示,來自于中國的年度訂單金額已經(jīng)突破了ASML公司的新紀(jì)錄,這將會讓全球芯片產(chǎn)業(yè)進(jìn)入一個全新的技術(shù)時代。

2018年,來自于中國大陸最大的晶圓制造商中芯國際,其公司CEO梁孟松在上海簽署了購買協(xié)議,以中芯國際的身份正式從ASML采購一臺先進(jìn)的EUV光刻機(jī),這臺設(shè)備也是中國大陸首臺EUV設(shè)備。其采購金額高達(dá)1.2億美元,相當(dāng)于中芯國際在去年一整年的利潤。

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ASML監(jiān)事會認(rèn)為,與中國在EUV設(shè)備上面進(jìn)行合作的風(fēng)險極大,美國政府會從中進(jìn)行干預(yù)。但是ASML的管理層不以為然,從2014年開始,ASML就與中芯國際簽訂過大量采購設(shè)備的合同,并且ASML地處荷蘭,屬于中立國家企業(yè),不涉足政治立場,美國政府沒有理由阻礙ASML與中國市場進(jìn)行合作。

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與此同時,ASML與中國企業(yè)約法三章:中國企業(yè)只可以在ASML員工的協(xié)助下使用設(shè)備,不允許向ASML詢問敏感技術(shù)上面的內(nèi)容。而中國企業(yè)也向ASML保證,中方嚴(yán)格遵守知識產(chǎn)權(quán)法,堅(jiān)決不會探尋光刻機(jī)的制造技術(shù)。

盡管ASML與中國企業(yè)達(dá)成了共識,并且雙方的合作合規(guī)合法,但是美國政府依然向荷蘭政府施壓,禁止ASML將EUV設(shè)備交付給中國企業(yè)。

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據(jù)馬克·海金克在其所著書籍中寫道:美國政府的安全顧問蒂姆·莫里森多次前往荷蘭,與荷蘭政府的相關(guān)代表進(jìn)行談話,并且美國國防部、國務(wù)院、白宮人員全部開始在外交上面對荷蘭進(jìn)行了“猛烈進(jìn)攻”。在美國政府多方面的壓制下,成功攔截了中國企業(yè)向ASML采購的EUV設(shè)備。

不只是中芯國際的設(shè)備被攔截,韓國企業(yè)SK海力士在中國的無錫工廠,也曾經(jīng)采購了一臺EUV設(shè)備,但是迫于美國政府的壓力,這臺光刻機(jī)也被叫停。

技術(shù)方案

雖然中國的EUV設(shè)備被全面攔截,但是中國企業(yè)手中依然掌握著曾經(jīng)從ASML采購的浸潤式DUV設(shè)備,這些設(shè)備可以通過多重曝光的技術(shù)制造更加先進(jìn)的芯片。

但是如果想用多重曝光技術(shù)實(shí)現(xiàn)先進(jìn)芯片的量產(chǎn),那么就需要后端的沉積設(shè)備和刻蝕設(shè)備的技術(shù)水平足夠強(qiáng)。

根據(jù)海金克的專業(yè)市場分析稱,一個芯片制造商使用浸潤式DUV設(shè)備,通過多重曝光來制造更加先進(jìn)的芯片,那么總投資的20%將會被用在光刻機(jī)上面,剩下80%被投入到后端的制造技術(shù)上面。如果采用EUV技術(shù),那么將會有30%的資源投入到光刻機(jī)上面,70%投入到后端設(shè)備上。

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建立一條DUV+多重曝光的晶圓生產(chǎn)線,其總成本將會超過150億美元,并且還會馬上就面臨著技術(shù)瓶頸問題以及后續(xù)的技術(shù)發(fā)展乏力等情況。從長遠(yuǎn)的角度看,使用EUV設(shè)備的性價比最高,而使用DUV+多重曝光的方案只能算是一種處于絕境地步的技術(shù)手段。

中國企業(yè)實(shí)現(xiàn)7nm芯片量產(chǎn)的方式,就是采用了DUV+多重曝光的方案。雖然中國企業(yè)無法獲得前端的EUV設(shè)備,但是中國企業(yè)在后端的制造設(shè)備上有著極強(qiáng)的爆發(fā)力。

北方華創(chuàng)、盛美半導(dǎo)體、中微半導(dǎo)體、深圳新凱來,這些來自于中國的本土設(shè)備企業(yè)均在沉積設(shè)備、刻蝕機(jī)、清洗機(jī)、測試機(jī)等多個后端制造設(shè)備上實(shí)現(xiàn)了自主技術(shù)的產(chǎn)出,實(shí)現(xiàn)了后端制造產(chǎn)業(yè)鏈的全流程貫通。

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海金克在與楊銳的訪談中明確表示過:美國限制中國使用某些技術(shù)的政策方式,是促使中國工程師開發(fā)本國制造半導(dǎo)體工具包的最佳動力。我認(rèn)為這實(shí)際上刺激了中國人,他們被迫找到了自己的技術(shù)路線。

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